산업자원부 공고 제 2006 - 202 호
| 2006년도 핵심기반기술개발사업 신규과제 개발사업자 선정 공고 |
산업경쟁력 제고를 위하여 추진하고 있는 핵심기반기술개발사업 신규과제를 다음과 같이 공고하오니 해당 기술을 개발하고자 하는 경우 신청 요령에 따라 기술개발사업 계획을 신청하여 주시기 바랍니다. 2006. 7. 12. 산업자원부장관 Ⅰ. 공통사항 | 1. 사업개요 | | | | | | ㅇ | 산업화를 전제로 한 기초/원천기술 및 산업전반에 파급효과가 큰 핵심기반기술개발을 지원함으로써 산업경쟁력을 제고하기 위함 | | | | | | 세부사업명 | 사업내용 | 총괄관리기관 | 평가전담기관 | 전자부품 기반기술개발
| 디지털전자 관련 핵심부품을 중소기업과 공동 개발 | 전자부품 연구원 | 한국산업기술평가원 | 반도체기반 기술개발
| SoC 종합기술개발, 비메모리 반도체 설계기술 개발, 관련장비 국산화 등
| 반도체 연구조합
| 반도체연구조합 | 자동차기반 기술개발
| 자동차의 친환경, 고효율에너지, 첨단시스템 및 핵심기반기술개발
| 자동차부품 연구원
| 한국산업기술평가원 | 생산기반 기술개발
| 제조업 기반기술인 도금, 주물, 열처리, 금형,용접, 단조의 전략적 개발 · 보급
| 생산기술 연구원
| 한국산업기술평가원 | 정밀화학기반 기술개발 | 정밀화학 및 파인세라믹스 소재 분야의 원천 및 응용기술 개발 | 한국화학 연구원 | 한국산업기술평가원 |
| | | ※
| 반도체기반기술개발사업, 정밀화학기반기술개발사업은 2006년도 신규사업 추진계획이 없으며, 자동차기반기술개발사업은 예산 확보 시 추후 공고 예정임 | | | - 핵심기반과제 : 원천 및 핵심기술 확보를 위한 선행연구과제 - 사업화과제 : 신제품 개발, 응용개발, 사업화 개발 등을 위한 과제 - 사업화과제 : (기업이 주관 또는 참여기업으로 반드시 참여하여야 함) |
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| | | 2. 사업추진체계 | | | ㅇ 총괄관리기관 : 중장기 종합계획 수립, 협약체결, 세부사업의 총괄관리 등 역할 수행 ㅇ 평가전담기관 : 세부사업 평가 및 세부과제의 신규, 진도점검, 단계, 최종 평가 수행 ㅇ 세부주관기관 : 세부과제의 실질적 연구수행 | | | 3. 지원내역 | | | | ㅇ 정부출연금 지원조건 | | | | | | 주관기관 유형 | 기술개발 형태 | 정부출연금 지원비율 | 비 고 | 중 소 기 업 벤 처 기 업 | 공동기술개발(산학, 산연, 산학연, 기업간) | 3/4이내 | | | 단독기술개발 | 1/2이내 | | 기 타 (대기업, 연구소, 대학 등) | 공동기술개발 (산학, 산연, 산학연, 기업간) | 2/3이내 | 주1) | | 단독기술개발 | 1/3이내 | |
| | | 주1)
| 상기 정부출연지원비율과 관련, 주관기관 유형 및 기술개발형태가 기타(대기업, 연구소, 대학 등), 공동기술개발에 해당하더라도 참여기업이 2개 미만이거나 참여 기업 중 중소기업 비율이 3분의 2미만인 경우에는 정부출연금 지원 비율이 2분의 1이내임. | | | | | ※ 단, 핵심기반과제는 총사업비의 100%이내까지 정부출연금을 지원 |
| | | ㅇ | 민간부담 현금은 연차별 합계금액에 대하여 1차년도 10%, 2차년도 15%, 3차년도 20%이상을 부담하여야 함 | | | ㅇ | 단, 주관기관이 중소기업인 경우 민간부담금 현금은 연차별 차수와 상관없이 연차별 합계금액의 10%이상으로 함 |
| | | 4. 신청요령 | | | | ㅇ 신청서 교부기간 : 2006. 7. 13~8. 14 | | | | ㅇ 신청서 교부 및 안내 | | | | | | | | ㅇ신청서 접수 | | | - 접수처 : 서울시 강남구 역삼동 701-7 한국기술센터 8층 - 접수처 : 한국산업기술평가원 고객지원팀 (우 135-080) - 접수기간 : 2006. 7. 13(목) ~ 8. 14(월) 18:00 - 인터넷(http://www.itech.go.kr)으로 전산양식에 등록하여 과제번호를 부여받은 후 사업계획서 및 - 첨부 증빙서류는 우편접수 (마감일 도착분에 한함) - ※ 우편물 표지에 과제번호, 신청과제명, 업체명, 실무담당연락처를 필히 기재 |
| | | 5. 유의사항 | | | | ㅇ 기술료 징수 | | | | | | 주관기관 유형 | 세 부 구 분 | 정액기술료율 | | 기 업 | 대기업 | 총 지원 정부출연금의 40% | | 중소기업 | 총 지원 정부출연금의 20% | 기 타 (대학, 연구소, 사업자단체 등) | 중소기업의 민간부담금이 총 민간부담금의 50% 이상 | 총 지원 정부출연금의 20% | | 중소기업의 민간부담금이 총 민간부담금의 50% 미만 | 총 지원 정부출연금의 40% |
| | | ※ 단, 핵심기반과제는 기술료를 징수하지 않음 | | | ㅇ 다음의 경우는 지원에서 제외함 | | | - 산업기술개발사업에 참여중인 자가 접수마감일 현재 동 사업 의무사항(보고서 제출, 기술료 납부 등)을 - 불이행하고 있는 경우 - 사업참여 제한중인 자 또는 기관(기업)이 신청 또는 참여하는 경우 - 금융기관 등의 신용거래 불량자 | | | ㅇ 제출된 서류는 일체 반환하지 않음 |
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Ⅱ. 세부사업별 추진내용
| 1. 전자부품기반기술개발사업 | | | | | | 1) 사업목적 | | | | | 우리나라 성장주도산업인 전자부품 · 디지털전자산업에 파급효과 큰 원천기술개발과 중소벤처기업의 상품화 기술개발을 적기 지원함으로써 선진국 및 경쟁국가에 대한 기술의존을 탈피하고 수입대체 및 수출경쟁력을 강화시키고자 함 | | | | 2) 지원대상기술 | | | | | | 분야 | 과제명 | | 핵심기반 | Global Video Codec 핵심기반기술개발 | | GaN-on-Si template이용 고주파 power device 기술 개발 | | 사업화 | SD타입 초소형 DVB-H 수신모듈 개발 | | 디스플레이용 그린 레이저 광원개발 | | 근거리 인식기반 스마트 단말용 듀얼통신모드 SoC 개발 | | Mobile Automotive Media Server 단말기 개발 | | 나노환경센서를 이용 차량내부 유해가스 유입제어시스템 및 실내오염 검출시스템 개발 | | Bio Medical Cell Culture를 위한 Micro Cell Reactor Module 개발 | | 휴대인터넷 환경위한 차세대 RSN(Robust Security Network) SoC 플랫폼 개발 | | 솔라에너지 이용 지능형 도로정보 센싱디바이스 기술 개발 |
| | | ※ 기술제안서는 인터넷 홈페이지 http://www.itech.go.kr 또는 http://www.keti.re.kr 참조 | | | 3) 지원내역 | | | ㅇ 개발기간 --- - 핵심기반과제 : 3년 이내 --- - 사업화과제 : 2년 이내 ㅇ 지원규모 --- - 핵심기반과제 : 과제당 10억원/년 이내 --- - 사업화과제 : 과제당 5억원/년 이내 | | | 4) 신청자격 | | | ㅇ 주관기관 --- - 핵심기반과제 : 전자부품연구원(KETI) --- - 사업화과제 : 정부출연연구기관, 국공립연구기관, 전문생산기술연구소, 연구조합, 대학, 기업, ------------------사업자 단체, 기타 산업발전법의 규정에 의한 산업기술개발사업 실시기관 등 ㅇ 참여기업 --- - 핵심기반과제 : 해당 없음 --- - 사업화과제 : 주관기관과 함께 개발사업에 공동참여하여 개발사업비 중 민간부담금을 부담하고 - --------------- 개발 후 기술료납부의 의무를 지며 기술개발결과의 활용을 희망하는 기업 ㅇ 위탁기관 : 국 · 공립연구기관, 정부출연연구기관, 산업기술연구조합, 대학, 전문생산기술연구소, -------------비영리연구법인, 산업기술단지지원에관한특례법에 의해 지정된 산업기술단지(테크노 -------------파크) 사업자에 해당하는 기관 | | | 5) 신청서 교부 및 접수 | | | |
| | | 2. 생산기반기술개발사업 | | | | 1) 사업목적 | | | | | 자동차, 조선 등 국가 주력산업에 핵심부품 · 가공기술을 공급하는 6대(주물, 금형, 열처리, 도금, 소성, 용접) 생산기반기술의 전략적 개발을 통한 기술혁신으로 2010년 세계 산업 4강 실현 기틀을 마련하고자함 | | | | 2) 지원대상기술 | | | | | | 분야 | 과제명 | 사 업 화 | 주조 | 고강도 · 고전도성 특수동합금의 소재 및 부품제조기술 | | 산업 플랜트용 고융점 활성금속의 정밀주조기술 개발 | | 금형 | 고기능성 용기 인 몰드 라벨링(IML) 금형 · 성형기술 개발 | | 용접 | 차세대 LCD 제조용 알루미늄부품을 위한 레이저-아크 하이브리드 용접기술 개발 | | 산업 구조물 용접을 위한 전자세 자동 micro carriage개발 | | FPC 대응 고정밀 접합기술 개발 | | 도금 | 다층 PCB 빌드업 기판용 마이크로 범프 전해도금 기술 개발 | | 소성 | 차세대 공조시스템용 초고압 Cooler 핵심부품 제조기술 개발 | | 비철재료 부품 체결용 고강도 경량볼트의 성형기술개발 | | 미세 박판 성형기술을 이용한 다기능 IT 단말기용리튬이온 전지의 1 · 2차 안전장치 개발 | | 열처리 | 초경 공구의 경쟁력 강화를 위한 복합코팅, 흑연가공용 공구 코팅기술개발 | | 타펫트 등 엔진성능 부품의 저 마찰화 기술 개발 |
| | | ※ 기술제안서는 인터넷 홈페이지 http://www.itech.go.kr 또는 http://www.kitech.re.kr 참조 | | | 3) 지원내역 | | | ㅇ 지원규모 --- - 과제당 3억원/년 이내 | | | 4) 신청자격 | | | ㅇ 주관기관 : 정부출연연구기관, 국공립연구기관, 전문생산기술연구소, 산업기술연구조합, 대학, 기업, ㅇ 주관기관 : 사업자 단체, 기타 산업발전법의 규정에 의한 산업기술개발사업 실시기관 등 ㅇ 참여기업 : 주관기관과 함께 개발사업에 공동참여하여 개발사업비 중 민간부담금을 부담하고 개발 ㅇ 참여기업 : 후 기술료납부의 의무를 지며 기술개발결과의 활용을 희망하는 기업 ㅇ 위탁기관 : 국 · 공립연구기관, 정부출연연구기관, 산업기술연구조합, 대학, 전문생산기술연구소, ㅇ 위탁기관 : 비영리연구법인, 산업기술단지지원에관한 특례법에 의해 지정된 산업기술단지(테크노파크) ㅇ 위탁기관 : 사업자에 해당하는 기관 | | | 5) 신청요령 | | | |
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